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本申请涉及掩膜技术领域，尤其涉及一种下压装置及对掩膜板的下垂量进行调节的方法，用以改善现有技术中由于掩膜板在张网过程中会出现下垂而导致在蒸镀工艺中出现蒸镀不良的问题。本申请中下压装置主要包括：控制部件和连接所述控制部件的至少一个接触部件，其...
该专利属于昆山国显光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山国显光电有限公司授权不得商用。

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