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一种用于光刻设备的照射系统(IL)包括：透镜阵列(2a‑h)，被配置成接收辐射束(B)且将所述辐射束聚焦成多个子束(4a‑h)；反射元件阵列，被配置成接收所述子束且反射所述子束以便形成照射束；分束装置(10)，被配置成将所述照射束分裂成第一...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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