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基于台状有源区的固态等离子体PiN二极管及其制备方法技术
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下载基于台状有源区的固态等离子体PiN二极管及其制备方法的技术资料
文档序号:15332489
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本发明涉及一种基于台状有源区的固态等离子体PiN二极管及其制备方法。该制备方法包括:(a)选取SOI衬底;(b)刻蚀SOI衬底形成台状有源区;(c)对所述台状有源区四周利用原位掺杂工艺分别淀积P型Si材料和N型Si材料形成P区和N区;(d)...
该专利属于西安电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安电子科技大学授权不得商用。
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