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描述了一种配置成用于将工艺气体供应到蒸发器源中的气体注入器单元。所述蒸发器源包括间隔开的坩埚以用于处理基板，其中在所述坩埚之间设有间距。所述气体注入器单元包括：气体注入器外壳，所述气体注入器外壳包括温度调整单元；气体引导管，所述气体引导管具...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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