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本发明涉及一种多栅氧器件工艺监控方法、监控结构及其制造方法，其中，多栅氧器件工艺监控结构设置于包括第一栅氧器件和第二栅氧器件的多栅氧器件中，其中第一栅氧器件对应的第一栅氧层的厚度大于第二栅氧器件对应的第二栅氧层，且该多栅氧工艺监控结构为金属...
该专利属于无锡华润微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润微电子有限公司授权不得商用。

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