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本实用新型涉及真空镀膜设备的领域，提供了集热膜的真空镀膜设备，包括腔体，腔体具有密闭腔室，腔室中设有滚筒组、卷绕于滚筒组上的基片箔膜以及与基片箔膜相对设置的弧源，弧源包括阴极和阳极，阴极上设有用于朝基片箔膜溅射金属等离子体的靶材，腔室连接有...
该专利属于深圳市拓日新能源科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市拓日新能源科技股份有限公司授权不得商用。

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