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等离子体系统及使用该系统进行处理的方法技术方案
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下载等离子体系统及使用该系统进行处理的方法的技术资料
文档序号:14773896
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本公开涉及等离子体系统及使用该系统进行处理的方法。其中等离子体系统包括等离子体室,其包括室壁,具有设置在室壁内的第一焦线和第二焦线。第一天线在第一焦线处设置在等离子体室内。室壁被配置为将来自第一天线的辐射聚焦到第二焦线上。...
该专利属于英飞凌科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技股份有限公司授权不得商用。
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