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一种金属缺陷的检测方法及检测结构的形成方法,所述金属缺陷的检测结构的形成方法,包括:提供待测样品,所述待测样品包括:金属线和与所述金属线连接的导电结构;去除所述导电结构;在所述金属线中确定与所述金属缺陷接触的第一待测金属线和第二待测金属线;...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种金属缺陷的检测方法及检测结构的形成方法,所述金属缺陷的检测结构的形成方法,包括:提供待测样品,所述待测样品包括:金属线和与所述金属线连接的导电结构;去除所述导电结构;在所述金属线中确定与所述金属缺陷接触的第一待测金属线和第二待测金属线;...