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本文公开了一种计算机执行的用于改进光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上并且用于通过蚀刻过程将所述设计布局的被成像的部分转移到衬底上，所述方法包括以下步骤：针对蚀刻过程的多种变化中的每一种变化，确定所...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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