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本发明提供一种能够得到良好的弯曲性，在施加应力的部分难以出现裂缝，并且不用担心漏镀的化学镀镍浴。本发明的化学镀镍浴含有下述式(1)所示的含硫苯并噻唑类化合物。式中，X为碳原子数2以上的烷基或其盐，X也可以具有取代基。...
该专利属于上村工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过上村工业株式会社授权不得商用。

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