温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种晶体管的形成方法，包括：提供具有第一有源区和第二有源区的衬底，衬底表面具有介质层，介质层内具有暴露出部分第一有源区和第二有源区表面的第一开口，第一开口的底部表面具有栅介质层；在介质层表面、以及第一开口的侧壁和底部表面形成第一功函数膜；对...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。