温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种用于多弧离子镀设备弧源磁场控制的装置，涉及一种离子镀设备的辅助装置，其特征在于，所述装置包括炉体（1）、靶座（2）、弧源磁场控制的元件（3）；炉体（1）的下部设有靶座（2），靶座（2）上对称的设有两个通管，两个通管中间设有外部为六棱柱形...
该专利属于沈阳大学所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。