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本发明涉及一种立式磁控溅射真空镀膜防绕镀方法及基片夹具，它属于真空镀膜技术领域，所述的基片夹具是一个下部设置有开口向下的下卡槽，上部设置有三个开口向上的上卡槽的线性夹具；利用所述的基片夹具，将需要进行镀膜的镀膜基板的非镀膜面背靠背迭齐，并将...
该专利属于深圳市微纳科学技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市微纳科学技术有限公司授权不得商用。

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