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本发明公开一种非晶金刚石涂层的制备方法，在氖气气氛或含氖气的混合气氛中对基材进行磁控溅射沉积，功率为0.3‑5kW，衬底偏压为‑50～‑500V，沉积时间为1～3小时，得到非晶金刚石涂层，所述磁控溅射沉积采用的磁控源为纯度大于99.9％的单...
该专利属于广东工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过广东工业大学授权不得商用。

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