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本发明公开一种膜层纯度高，可精确控制膜层厚度的等离子法沉积膜层的装置，包括有反应室、抽气设备、气体输送系统和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送系统与反应室连通，抽气设备设于反应室的下方，气体输送系统设于反应室上方，脉冲微波发生器向反应室供应...
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