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本发明涉及一种含纳米二硅化钼的离合器面片料用浸制涂料，其特征在于：所述涂料按质量分数配比：纳米液体树脂80‑90份、纳米纤维素晶须10‑20份、聚苯乙烯磺酸钠10‑15份、纳米二硅化钼5‑8份、长石粉3‑5份、钠基膨润土2‑3份、二硫化钼1...
该专利属于张和庆所有，仅供学习研究参考，未经过张和庆授权不得商用。

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