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本发明公开了一种台面型二极管的加工工艺，该加工工艺包括以下步骤：扩散片制作完成→次光刻沟槽→一次腐蚀圆形槽台面→二次光刻沟槽→二次腐蚀圆形槽台面→圆形槽台面生长二氧化硅膜及清洗处理→涂覆玻璃粉→烘焙玻璃粉→玻璃钝化→表面腐蚀清洗。该发明通过...
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