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本发明所提供了一种掩膜块，掩膜版及掩膜版的制造方法。所述掩膜块包括：至少一个功能部；包围所述功能部的支撑部；以及至少一个开口，设置于所述功能部；由于功能部具有较小的厚度，并且是通过一次刻蚀步骤即可形成mask开口，因而可以降低真空蒸镀遮蔽效...该专利属于上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司授权不得商用。