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用于光刻度量的方法、设备和衬底技术
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下载用于光刻度量的方法、设备和衬底的技术资料
文档序号:13605367
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一种衬底具有通过光刻工艺形成在其上的三个或更多叠置光栅。每个叠置光栅具有已知的叠置偏置。叠置偏置的值包括例如在居中于零点上区域中的两个值,以及居中在P/2上区域中的两个值,其中P是光栅的节距。使用不同的叠置偏置值的认知以及在叠置和目标非对称...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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