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本发明公开了一种屏蔽光窗及其制备方法，其中所述的方法包括如下步骤：(1)清洗基片；(2)涂覆保护层；(3)对所述的保护层及基片进行刻蚀；(4)在刻蚀后的基片表面进行溅射镀膜；(5)除去所述的保护层即得所述的屏蔽光窗。本发明方法制备屏蔽光窗不...
该专利属于中国建筑材料科学研究总院所有，仅供学习研究参考，未经过中国建筑材料科学研究总院授权不得商用。

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