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本发明属于金属制品表面处理领域，特别涉及一种提高难熔金属制品发射率的处理方法，该方法通过预处理后的难熔金属基体材料的表面进行等离子体喷涂处理和热处理，提高难熔金属制品的发射率。本发明在使金属基体材料与金属涂层具有良好的结合，可提高材料的发射...
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