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一种具有高开关比的光开关的制备方法技术
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下载一种具有高开关比的光开关的制备方法的技术资料
文档序号:1323193
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本发明提供了一种具有高开关比的光开关的制备方法,即向载有透明电极的基片上旋涂一层有机聚合物绝缘层,聚合物绝缘层的厚度为10~200nm,再在真空条件下热蒸发沉积顶端电极层,向透明电极和顶端金属电极之间施加2~30V的电压,以使纳米金属细丝在...
该专利属于北京科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京科技大学授权不得商用。
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