下载形成晶体管的方法、衬底图案化的方法及晶体管的技术资料

文档序号:13114880

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种形成包括栅极电极的晶体管的方法,包括:在半导体衬底(100)之上形成牺牲层(140),在牺牲层(140)之上形成图案层(150),将图案层(150)图案化为经图案化的结构,形成与经图案化的结构的侧壁相邻的间隔物(160),去除经图案化的...
该专利属于英飞凌科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。