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本发明提供一种量子点层图形化的方法及量子点彩膜的制备方法。本发明的量子点层图形化的方法，利用具有图案结构的光阻层为遮蔽层，对单色量子点层进行刻蚀，得到图形化的量子点层，该方法简化了用于形成量子点层的量子点胶的组成成分，即简化量子点的表面化学...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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