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本发明公开了一种半导体加工用蒸发台的自清洁装置，其包括有工作腔室，工作腔室下端面设置有用于放置金属物料的放置台，放置台内部设置有电热源，工作腔室上端部设置有用于固定圆片的固定台，固定台由设置在工作腔室外部的电机进行驱动；所述工作腔室的侧端面...
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