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本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置。本发明的离子注入装置具备扫描单元(1000)，该扫描单元包括：扫描电极装置(400)，向沿着基准轨道(Z)射入的离子束B施加偏转电场，以向与基准轨道(Z)正交的横向扫描离子束(B)；及上游电极装置(...
该专利属于斯伊恩股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过斯伊恩股份有限公司授权不得商用。

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