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一种用于沉积涂层的方法包括在管状结构的内部体积内产生真空,其中所述管状结构也包括内表面。将气体供给至所述管状结构的内部体积,其中所述气体包括气相中的等离子体前体。所述管状结构相对于接地偏压。形成具有密度并沿着所述管状结构的长度周期性设置的等...该专利属于西南研究院;国际壳牌研究有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西南研究院;国际壳牌研究有限公司授权不得商用。
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一种用于沉积涂层的方法包括在管状结构的内部体积内产生真空,其中所述管状结构也包括内表面。将气体供给至所述管状结构的内部体积,其中所述气体包括气相中的等离子体前体。所述管状结构相对于接地偏压。形成具有密度并沿着所述管状结构的长度周期性设置的等...