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本发明公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置。用以加快阵列基板内的第一电极层的刻蚀速度,提高显示装置的开口率。其中制备方法包括在衬底基板上依次沉积第一电极层和栅极金属层,第一电极层包括至少两层导电层,且至少两层导电层的形成材料的刻...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置。用以加快阵列基板内的第一电极层的刻蚀速度,提高显示装置的开口率。其中制备方法包括在衬底基板上依次沉积第一电极层和栅极金属层,第一电极层包括至少两层导电层,且至少两层导电层的形成材料的刻...