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本发明提供了一种可减少硅片表面损伤层厚度的清洗液，包括碱、清洗剂和水，碱为氢氧化钠或氢氧化钾，碱在清洗液中的质量百分浓度为3％-12％，清洗剂在清洗液中的质量百分浓度为3％-6％。本发明还提供了一种可减少硅片表面损伤层厚度的清洗方法，包括以...
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