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本发明提供了一种超结结构的制备方法，属于半导体工艺制造技术领域。包括以下步骤：1)在衬底上制备第一N型外延层；2)采用多次高能离子注入工艺，在第一N型外延层需要制作P型柱的区域注入P型杂质，形成第一注入区；3)在第一N型外延层和第一注入区上...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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