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本发明描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括：具有反应腔室的反应装置；连接到所述反应腔室的第一通气管道，用于将沉积用的工艺气体导入所述反应腔室；气体电离装置，其连接到所述反应装置并用于对清洗气体进行电离；和连接到所述气体电离装置的第二通气...该专利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。