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本发明公开了一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。该阻垢剂中包含羟基乙叉二膦酸30-40％、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40％、硼氢化钾10-30％、纯水20-40％。本发明的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙...
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