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本发明提供一种黑色矩阵的制作方法，通过在基板上涂布包含正性光刻胶的黑色矩阵光阻体系，利用正性光刻胶被UV光照射的区域会在显影过程中被显影液去除，而遮光区域得以保留的特性，对黑色矩阵光阻体系形成的光阻层进行两次不同的曝光、显影过程，从而解决了...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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