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本发明提供了一种清洁护肤基质及其制备方法，清洁护肤基质以质量分数计，包括以下组分：月桂酸8～13％、硬脂酸6～10％、棕榈酸6～10％、肉豆蔻酸3～6％、第一乳化剂1～4％、第二乳化剂1～3％；第一保湿剂10～15％、pH调节剂1～3％、第...
该专利属于重庆领道科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆领道科技有限公司授权不得商用。

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