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带静电保护结构的MOSFET及其制备方法技术
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文档序号:11642149
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本发明公开一种带静电保护结构的MOSFET及其制备方法,该MOSFET包括:衬底;第一导电类型的外延层;源区和栅结构;位于外延层之上的介质层,介质层中具有彼此相邻的源接触孔和栅接触孔;与源区相连的源极金属层,源极金属层的至少一部分形成在介质...
该专利属于比亚迪股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过比亚迪股份有限公司授权不得商用。
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