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本发明涉及基板支撑装置及基板处理装置，包括：腔室，形成处理空间；气体喷射器，在所述腔室的内部供给处理气体；及基板支撑台，配置在所述腔室的内部支撑基板，所述基板支撑台，具有通过分别的流通渠道，向所述基板的上部边缘及下部边缘供给净化气体的流通渠...
该专利属于圆益IPS股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过圆益IPS股份有限公司授权不得商用。

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