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本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种TEM样品的制备方法，利用在不同工艺下沉积的同类材质在化学刻蚀工艺中刻蚀速率的不同，在刻蚀较快的材料区域填入少量的金属作为染色材料，从而在TEM观测时可以利用材质衬度的不同将这些材料很好地区分开，同...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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