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本发明公开了一种金属表面低温电解渗硼用渗硼剂及渗硼工艺，渗硼剂由65～98.9wt.％NaBF4、1～20wt.％B2O3、0.1～15wt.％添加剂组成。渗硼处理时，先将配制好的渗硼剂装入坩埚并置于电阻炉或电频炉中，金属工件作为阴极，石墨...
该专利属于中南大学所有，仅供学习研究参考，未经过中南大学授权不得商用。

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