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蚀刻速率模拟及其在室内和室对室匹配中的用途制造技术
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文档序号:11028022
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本发明涉及蚀刻速率模拟及其在室内和室对室匹配中的用途。具体而言,一种用于进行室对室匹配的方法包括接收在第一等离子体系统的射频发生器的输出处测量的电压和电流。所述方法进一步包括计算多项的总和。第一项是系数与所述电压的函数的第一乘积。第二项是系...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
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