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提供一种表面处理技术，其富有密接功能、反应功能，而且具有多样性。表面处理方法通过涂布含有化合物α的溶液将所述化合物α设置于基板上，所述化合物α至少含有M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素、氨基以及三嗪环，所述M-OH基及/或M...该专利属于森邦夫;株式会社硫黄化学研究所;名幸电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过森邦夫;株式会社硫黄化学研究所;名幸电子有限公司授权不得商用。