温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及高反射光学介质薄膜的性能修正技术领域，具体涉及一种高反射光学介质薄膜反射相移的修正方法。本发明通过对高反射光学介质薄膜膜系结构的保护膜层物理厚度进行修正，实现对高反射光学介质薄膜反射相移修正的目的。本发明分别针对反射相移的正方向补...该专利属于中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所授权不得商用。