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本发明公开了一种用于薄膜转移的方法，可以有效的将薄膜从一个衬底分离并转移到另外一个衬底上，同时减少或者避免对薄膜可能产生的损伤。本发明针对薄膜转移工艺中经常出现的键合面缺陷、以及由键合面缺陷导致的转移层缺陷问题，采用了在键合片裂片过程之前对...
该专利属于高地所有，仅供学习研究参考，未经过高地授权不得商用。

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