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本发明属于X射线荧光光谱制样技术领域，尤其涉及一种X射线荧光光谱用高压制样技术，其特征在于包括如下步骤：称取6-10g试样，放入模具内，拨平；用低压聚乙烯镶边垫底，然后置于高压压力机上；采用程序控制法进行升压，以1-25KN/s的速度升压，...
该专利属于中国地质科学院地球物理地球化学勘查研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国地质科学院地球物理地球化学勘查研究所授权不得商用。

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