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本发明提供了一种消除晶圆曝光失焦缺陷的吸盘及方法，该吸盘具有平坦的上表面，用于支撑晶圆；其包括：多个真空吸孔，密集分布于吸盘上表面，用于将晶圆的各个位置吸附在同一平面内；多个热电偶，密集分布于吸盘底部，并与真空吸孔相间设置，用于加热晶圆。本...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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