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本发明提供了一种具有防腐蚀功效的光刻胶去除剂，其原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2～C15一元醇。该去除剂能够提供剥离性优异、安全，且不会腐蚀导电体的防腐蚀性优异。...
该专利属于青岛华仁技术孵化器有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛华仁技术孵化器有限公司授权不得商用。

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