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本发明公开了一种干蚀刻设备，其包括：蚀刻腔体以及设在所述蚀刻腔体底部的抽气系统。其中，抽气系统包括：具有若干抽气口和排气口的抽气通道、抽气机、对应安装在各个抽气口上的可控阀。本发明还公开了一种干蚀刻方法，其包括以下步骤：将待蚀刻工件放入蚀刻...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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