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抗辐射SRAM单元制造技术
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文档序号:10308281
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本发明提供了一种改进的抗辐射SRAM存储单元,该单元包括以下结构:反相器结构,包括第一反相器结构、第二反相器结构、第三反相器结构、第四反相器结构,其中反相器结构由PMOS管和NMOS管串联形成,PMOS管漏极和NMOS管漏极之间作为存储节点...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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