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由于目前制备防伪元件时效率低、不能精细定位去金属镂空，本发明提供一种精确定位镀层的制备光学防伪元件的方法，包括：在基材表面上形成包括至少第一起伏结构层区域和第二起伏结构层区域的起伏结构层，第一起伏结构层区域的表面积与表观面积之比大于第二起伏...该专利属于中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司所有，仅供学习研究参考，未经过中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司授权不得商用。