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本发明公开了一种将微滴沉积在基片上的装置。该装置包括一用于基片的支承件；包括泵送腔的一微滴喷射组件；一控制器和将泵送腔中的总压力保持在阈值压力水平以上以避免在泵送腔中发生整流扩散式的气泡生长的一静压力源。该微滴喷射组件位于支承件上方，用于将...
该专利属于迪马蒂克斯股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过迪马蒂克斯股份有限公司授权不得商用。

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