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提供一种在微机电器件中形成喷嘴的技术。在层(500)键合到装置的另一部分(440)之前,在层(500)中形成喷嘴(460、566)。所述的键合前在层(500)中形成喷嘴(460、566)的方式使得可形成具有预定深度和预定几何形状的喷嘴(46...该专利属于富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司授权不得商用。
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提供一种在微机电器件中形成喷嘴的技术。在层(500)键合到装置的另一部分(440)之前,在层(500)中形成喷嘴(460、566)。所述的键合前在层(500)中形成喷嘴(460、566)的方式使得可形成具有预定深度和预定几何形状的喷嘴(46...