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提供一种在微机电器件中形成喷嘴的技术。在层（５００）键合到装置的另一部分（４４０）之前，在层（５００）中形成喷嘴（４６０、５６６）。所述的键合前在层（５００）中形成喷嘴（４６０、５６６）的方式使得可形成具有预定深度和预定几何形状的喷嘴（４６...该专利属于富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司授权不得商用。
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提供一种在微机电器件中形成喷嘴的技术。在层（５００）键合到装置的另一部分（４４０）之前，在层（５００）中形成喷嘴（４６０、５６６）。所述的键合前在层（５００）中形成喷嘴（４６０、５６６）的方式使得可形成具有预定深度和预定几何形状的喷嘴（４６...